鍍膜玻璃的真空陰極磁控濺射鍍膜法，是將玻璃置于真空室中，在真空室內通入反應性氣體，當對濺射陰極通電時，在電場的作用下，從陽極表面發(fā)射出電子，電子在電場的加速下能量迅速提高，高能電子將于陰極表面區(qū)域的空間的氣體分子相碰撞，使氣體分子電離，帶正電的粒子在電場的加速下，高速向陰極表面撞擊，將金屬粒子擊出，同時由于粒子碰撞靶表面產生大量二次電子，電子又在電場的加速下成為高能電子，從而維持這種導常輝光放電。其中，被帶正電的粒子從靶表面出的金屬粒子，會沉積在玻璃上，形成薄膜。采用這種方法，可以進行多層膜的生產，可形成的材料極多。絕大部分的金屬和無機非金屬均可成膜。

“控陰極濺射的原理”是在陰極內部裝有永久磁鐵或電磁鐵。磁場穿透陰極表面的金屬濺射靶，在對濺射陰極通電時，產生了一次電子，一次電子既在磁場束縛下又在電場的加速下，形成螺旋式運動軌跡，大大增加了加速時間及運動路程，提高了與空間氣體分子相碰撞的幾率和速度，從而提高了濺射沉積率。

采用真空磁控濺射鍍膜法生產熱反射鍍膜玻璃，是目前國際上生產大面積鍍膜玻璃的最先進工藝方法，比傳統(tǒng)的鍍膜方法在產品質量、功能、勞動生產率、成本等方面有顯著的改進。除具有上述特點外采用真空磁控濺射鍍膜法生產熱反射鍍膜玻璃，還具有膜層牢固和均勻，化學穩(wěn)定性能好等優(yōu)點。并能獲得多種理想的光學性能和豐富的反射顏色。